Представители компании Intel заявили о завершении работ над новой технологией, способной сократить утечки тока по сравнению с современными транзисторами как минимум в 100 раз.

Будут уменьшены утечка тока, а как следствие этого, и энергопотребление микросхем за счет так называемых high-k-диэлектриков в затворах транзисторных переходов.

Планируется, что через несколько лет Intel перейдет на нормы 0,65-нанометрового техпроцесса, а уже к 2007 году освоит и 45-нанометровую методику изготовления кристаллов.

В следствие этого, многократно возрастут тактовые частоты процессоров.